어떤 코팅 방법으로 단결정 박막을 성장시킬 수 있을까?

CVD, PVD, 에피택셜 장비의 차이점은 무엇입니까?

CVD, PVD 및 에피택셜 공정의 종류

CVD,PVD,?
CVD: LPCVD, APCVD, SACVD, PECVD, HDPCVD, FCVD, MOCVD 등.
PVD: 전자빔 증착, 마그네트론 스퍼터링, PLD(펄스 레이저 증착) 등.

에피택시얼: 분자빔 에피택시 MBE, 기체상 에피택시 VPE, 액상 에피택시 LPE, 고체상 에피택시 SPE 등

그중에서 CVD, PVD, 에피택시는 원리적으로 유사하며, 이를 분류하는 방법도 다양하며, 위에 제시한 방법은 저의 분류 방법입니다.

필름 형성 메커니즘CVD, PCVD그리고에피택시얼?

위 그림에서 보듯이, 위의 세 가지 박막증착방법이 모두 위에 있는 것은 당연한 일이다.

2D 층별 성장 모드 이 코팅 방법에서는 박막의 성장이 층별로 수행되고, 원자 또는 분자의 각 층은 다음 층이 시작되기 전에 웨이퍼 표면을 완전히 덮습니다. 이 성장 모드는 초격자 구조와 같은 매우 평평한 필름 표면을 초래할 수 있습니다.

3D 섬 성장(Volmer-Weber)

이 모드에서 필름의 성장은 더 이상 층별로 이루어지지 않고 웨이퍼 표면의 일부 국부적인 영역에서 불연속적인 섬이 형성되어 점차 증가하여 결국 전체 웨이퍼를 덮습니다. 생성된 필름과 기판 사이의 상호 작용력은 약하고 필름의 표면 자유 에너지는 큽니다.

혼합 모드 성장 이 성장 모드에서

필름은 처음에 일정 시간 동안 층층이 성장하고, 특정 두께에 도달하면 응력이 축적되어 섬과 같은 구조를 형성하기 시작합니다. 일반적으로 단결정 박막을 성장시킬 수 있는 방법에는 분자 빔 에피택시 MBE, 기체상 에피택시 VPE, 액체상 에피택시 LPE, 고체상 에피택시 SPE, MOCVD, PLD(펄스 레이저 증착)가 있습니다. 2D 층별 성장 모드는 단결정을 형성하기 쉽고, CVD 및 PVD는 공정 조건을 조정하여 다결정 또는 비정질 결정을 생성하는 데 사용할 수 있습니다.