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215-00042-000-A05 프로세스 챔버
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715-028405-001 하우징, 하부 반응실
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0020-33806 상부 챔버 DPS + 폴리. 2차 소스 신규. 아마트 센츄라 5200 DPS 폴리.
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0040-09723 -유니바디, 에칭 챔버. 2차 소스 신규. AMAT 금속 에칭 5000.
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715-330106-003 CHSG MDL RCTN CHMBR FXD GAP. 2차 소스 신규. 램리서치.
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715-330834-002 DHSG, LWR RCTN CHMBR, ENH. 2차 소스 신규. 램리서치.
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0040-04745 챔버 본체 Ultima Hdp-cvd. 2차 소스 신규. AMAT Centura 5200 HDP-CVD.
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0021-09625 챔버 하단 Dps 2차 소스 신규
0021-09625 챔버 하단 DPS. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 DPS.
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0040-09001챔버 본체, 표준 4-6" 2차 소스 신규
0040-09001챔버 본체, 표준 4-6. 2차 소스 신규. AMAT CVD.
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