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0040-04745 챔버 본체 Hdp-cvd 2차 소스 신규
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0040-01973 REV.004 챔버 바닥 복사열 200MM RTPw
0040-01973 REV.004 챔버 바닥 복사열 200MM RTP. 2차 소스 신규.
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0040-09094 챔버 200mm
0040-09094 챔버 200mm. 2차 소스 신규.
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215-00042-000-A05 프로세스 챔버
215-00042-000-A05 프로세스 챔버. 2차 소스 신규.
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715-028405-001 하우징, 하부 반응실
715-028405-001 하우징, 하부 반응실. 램리서치.
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0020-33806 상부 챔버 Dps + 폴리 2차 소스 신규
0020-33806 상부 챔버 DPS + 폴리. 2차 소스 신규. 아마트 센츄라 5200 DPS 폴리.
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0040-31942 챔버 본체, 에칭, 산화물, 측면 가스 공급. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 MXP+.
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715-330106-003 CHSG MDL RCTN CHMBR FXD GAP. 2차 소스 신규. 램리서치.
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0040-39553 챔버 본체, Dxz 2차 소스 신규
0040-39553 챔버 본체, DXZ. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 DXZ.
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0040-04745 챔버 본체 Ultima Hdp-cvd 2차 소스 신규
0040-04745 챔버 본체 Ultima Hdp-cvd. 2차 소스 신규. AMAT Centura 5200 HDP-CVD.
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0021-09625 챔버 하단 Dps 2차 소스 신규
0021-09625 챔버 하단 DPS. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 DPS.
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0021-35922 챔버 본체, Txz Mcvd 2차 소스 신규
0021-35922 챔버 본체, TXZ MCVD. 2차 소스 신규. TXZ MCVD.
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