EUV 마스크는 어떤 재질로 만들어졌나요?

EUV 마스크는 반사형인데, 우리가 쓰는 마스크는 투과형인데, 왜 이런 현상이 일어날까요?

EUV 마스크는 왜 반사성인가요?

EUV 광의 파장은 13.5nm이며, 이 극히 짧은 파장은 모든 재료를 통과할 때 강하게 흡수되어 EUV 광을 효과적으로 투과할 수 있는 적합한 투명 재료가 없어 EUV 리소그래피에서 기존의 투과 마스크를 사용할 수 없게 됩니다. EUV 마스크의 구조

위 그림에서 보듯이 EUV 마스크는 브래그 반사 원리를 사용하여 EUV 광을 반사하는 다층 필름 구조를 채택합니다. 최대 약 70%의 반사율을 달성할 수 있어 리소그래피의 정확도와 효율성을 향상시킵니다.
반사 방지 코팅(ARC) (Anti-Reflective Coating): 레티클 표면의 반사를 줄이고 광 흡수 효율을 높입니다. 흡수체: 반사되지 않은 EUV 광을 흡수하는 리소그래피 패턴의 실제 캄비움 층입니다. 일반적으로 흡수층 재료는 Ta, TaN, TaBN 등입니다. Ru 캡핑: 다층 멤브레인 구조를 산화 및 손상으로부터 보호합니다.

Mo/Si 다층 미러(몰리브덴/실리콘 다층 미러): 실리콘과 몰리브덴의 40~50개 층이 LTEM 기판 위에 브래그 반사층으로 증착되어 13.5nm 파장에서 EUV의 최대 반사를 구현합니다.
저열팽창소재(LTEM) : 급격한 온도 변화에도 열적 안정성이 높고 치수 변화가 최소화되는 마스크 기판 소재입니다.

전도성 뒷면 코팅(Conductive Back Coating): 일반적으로 크롬 질화물로 구성되어 정전기 축적을 줄이고 정전기 유지를 용이하게 합니다.