이 회사는 오랜 운영 역사, 안정적이고 지속 가능한 비즈니스 개발을 보유하고 있으며 항균 차폐 기능을 갖춘 챔버 본체, 고정 기능이 있는 챔버 본체, 대체 재료를 사용한 챔버 본체 소비자가 호평을받습니다. 과학적 관리 방법, 제조 기술의 우수성 및 혁신적인 제조 개념을 통해 우리 회사는 빠르게 성장했습니다.주조용 챔버 본체 생산 및 수출 기반. 혁신 - 과학과 기술을 원동력으로 삼고, 시대와 보조를 맞추고, 혁신을 끊임없이 깨뜨리고, 신제품을 개발하고 개선하는 것은 기업의 지속적인 개발의 생명의 원천입니다. 이 회사는 품질의 첫 번째와 고객을 먼저 고수합니다. 우리는 진심으로 우리를 협상하고 공통의 발전을 추구 할 수있는 성실한 사람들을 진심으로 환영합니다. 우리 회사는 혁신과 업그레이드의 중요한시기에 있으며, 더 강하고, 더 좋고, 더 커지고, "세기 된 매장"을 건설하기 위해서는 우리의 머리를 열심히 일하고, 노력, 노력, 노력, 노력에 머리를 묻어 야합니다. 우리의 비즈니스 철학은 신뢰, 정직 및 성실성을 중심으로 구축되었습니다. 우리 회사는 투명성, 정직성 및 이해 관계자와의 공개 커뮤니케이션을 중요하게 생각합니다.
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0040-09001챔버 본체, 표준 4-6" 2차 소스 신규
0040-09001챔버 본체, 표준 4-6. 2차 소스 신규. AMAT CVD.
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0040-02544 상체, Dps Metal 2nd Source 신규
0040-02544 상체, DPS 금속. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 DPS.
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0040-01973 REV.004 챔버 바닥 복사열 200MM RTPw
0040-01973 REV.004 챔버 바닥 복사열 200MM RTP. 2차 소스 신규.
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0040-13865 Booy 200mm 챔버 생산자
0040-13865 Booy 200mm 챔버 생산자. 두 번째 소스 신규.
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715-028405-001 하우징, 하부 반응실
715-028405-001 하우징, 하부 반응실. 램리서치.
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0040-31942 챔버 본체, 에칭, 산화물, 측면 가스 공급 2차 소스 신규
0040-31942 챔버 본체, 에칭, 산화물, 측면 가스 공급. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 MXP+.
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0040-04745 챔버 본체 Hdp-cvd 2차 소스 신규
0040-04745 챔버 본체 HDP-CVD. 2차 소스 신규.
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715-330106-003 Chsg Mdl Rctn Chmbr Fxd Gap 2차 소스 신규
715-330106-003 CHSG MDL RCTN CHMBR FXD GAP. 2차 소스 신규. 램리서치.
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0040-39553 챔버 본체, Dxz 2차 소스 신규
0040-39553 챔버 본체, DXZ. 2차 소스 신규. AMAT 센츄라 5200 DXZ.
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0020-70376 드가 챔버 2차 소스 신규
0020-70376 탈가스실. 2차 소스 신규.
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0040-04745 챔버 본체 Ultima Hdp-cvd 2차 소스 신규
0040-04745 챔버 본체 Ultima Hdp-cvd. 2차 소스 신규. AMAT Centura 5200 HDP-CVD.
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0021-35922 챔버 본체, Txz Mcvd 2차 소스 신규
0021-35922 챔버 본체, TXZ MCVD. 2차 소스 신규. TXZ MCVD.
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